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        等離子清洗設備NPC-3500(M)等離子去膠機(刻蝕機)

        更新時間:2022-11-18 14:07:02 信息編號:3725el4ribe6c3
        等離子清洗設備NPC-3500(M)等離子去膠機(刻蝕機)
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        等離子清洗設備,等離子去膠機,等離子清洗機,等離子設備清洗機
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        等離子清洗設備NPC-3500(M)等離子去膠機(刻蝕機)

        NPC-3500(M)等離子去膠機(刻蝕機)概述:NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統是設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的等離子清洗設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。


        NPC-3500(M)等離子去膠機(刻蝕機)產品特點:

        緊湊型立式系統

        不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

        兼容100級超凈間使用

        淋浴頭、ICP或微波等離子源

        旋轉樣品臺

        RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺

        全自動或手動RF調諧

        z多可支持4個MFC帶電拋光的氣體管路

        PC計算機控制的氣動閥

        帶密碼保護的多級訪問控制

        基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

        機械泵的壓力可達到10mTorr

        250 l/s的渦輪分子泵

        J限真空為5x10-7Torr

        完整的安全聯鎖



        NPC-3000(M)等離子去膠機應用:

        有機物以及無機物的殘留物去除

        光刻膠剝離或灰化

        去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用

        清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架

        提高黏附性,消除鍵合問題

        塑料的表面改型:O2處理以改進涂覆性能

        產生親水或疏水表面
        那諾—馬斯特中國有限公司

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        • 磁控濺射系統,ald原子層沉積,刻蝕機,晶圓清洗設備
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